Silicio nitridų gamintojai analizuoja produkto žinias

Silicio nitridas yra keraminė medžiaga, svarbi kuriant patvarias konstrukcijas. Tai labai kieta medžiaga, turinti natūralų tepimą ir sudaro atomus, išdėstytus kaip kristalai. Jis nerūdija esant aukštai temperatūrai ir taip pat gali atlaikyti ypač karštą ir šaltą temperatūrą. Jis gali būti kaitinamas ore iki daugiau nei 1000 laipsnių temperatūros ir nesulaužys, net jei jis greitai atšaldomas ir pakartotinai pašildytas. Šios charakteristikos daro naudingą variklio dalims, tokioms kaip guoliai, turbinos ašmenys, mechaniniai sandariklių žiedai ir formos. Jis taip pat naudojamas kai kurių variklio dalių kaitinimo paviršiui gaminti, nes jis blogai veikia šilumą. Tai pagerina dyzelinių variklių našumą, taupo degalus ir pagerina šiluminį efektyvumą.

Silicio nitridų keraminės medžiagos taip pat yra labai stabilios aukštoje temperatūroje, nesulaužomos veikiant deguonies ir gali būti labai didelė ir tanki. Silicio nitridas yra kovalentinis junginys, turintis stiprų ryšį, ir gali sudaryti ore esančią apsauginę plėvelę oksidą, todėl jis taip pat yra labai stabilus chemiškai ir nesugriauna esant žemesnei kaip 1200 laipsnių temperatūrai. Apsauginė plėvelė, suformuota esant 1200 ~ 1600 laipsnių, gali užkirsti kelią tolesniam oksidacijai. Jis nereaguoja su daugybe išlydytų metalų ir lydinių, tokių kaip aliuminis, švinas, skarda, sidabras, žalvaris, nikelis ir kt., Tačiau gali būti korozija išlydytų skysčių, tokių kaip magnis, nikelio-chromo lydinys, nerūdijantis plienas ir kt.


Komponentai ir sandarinimo elementai chemijos pramonėje, taip pat peilių ir pjaustymo įrankiai proceso pramonėje.

Kadangi silicio nitridas gali sudaryti stiprų ryšį su silicio karbidu, aliuminiu oksidu, torio dioksidu, boro nitridu ir kt., Jis gali būti naudojamas kaip rišiklio medžiaga ir modifikuota įvairiomis proporcijomis.


Taikant „PECVD“ silicio nitrido plėvelę, ji gali būti naudojama kaip antireflekcinis filmas, siekiant sumažinti šviesos atspindį. Silicio nitrido plėvelės nusėdimo metu vandenilio atomai patenka į silicio nitrido plėvelę ir į silicio plokštelę, kuri vaidina vaidmenį defektų pasyvumui. Silicio nitrido ir silicio atominio skaičiaus santykis nėra griežtai 4: 3, o tam tikrame diapazone skiriasi priklausomai nuo skirtingų proceso sąlygų, o skirtingi santykiai atitinka skirtingas fizines filmo savybes.